近日，中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在微纳制作设备领域再次发力，自主研制成功紫外纳米压印光刻机，其成本仅为国外同类设备的三分之一，推进我国微纳实用制造水平迈上新的台阶。
光刻机是实现微纳图形加工的专用高端设备，它的出现使集成电路得以诞生，引发了第三次工业革命，人类进入信息时代。中科院光电所自主研发的紫外纳米压印系列光刻机，将纳米压印这一新型高分辨力光刻技术与具有低成本、高效率特点的紫外光刻技术有机结合，成功将加工制作成本减至国外同类设备的三分之一，同时还在同一加工平台上实现了微米到纳米级的跨尺度图形加工。
值得一提的是，这套设备采用新型纳米对准技术，将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级。对准是光刻设备三大核心指标之一，是实现功能化器件加工的关键。光电所在国家自然基金的连续资助下，完成基于莫尔条纹的高精度对准技术自主研发，取得专利20余项。该技术在光刻机中的成功应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题，为高精度纳米器件的加工提供了技术保障。设备可广泛应用于微纳流控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备，具有广阔的应用前景。目前设备已完成初试和小批生产，并在高校与企业用户中进行了推广，获得了用户一致好评。
近期，由中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会、中国电子专用设备工业协会、中国电子报社共同举办的“第十届（2015年度）中国半导体创新产品和技术”颁奖大会在北京举行，该产品在大会中荣获“第十届（2015年度）中国半导体创新产品和技术”奖。
新型光刻机